國內(nèi)外的潔凈技術(shù)的發(fā)展都是隨著科學技術(shù)的發(fā)展、工業(yè)產(chǎn)品的日新月異，特別是軍事工業(yè)、航天、電子和生物醫(yī)藥等工業(yè)的發(fā)展而不斷發(fā)展。現(xiàn)代工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和現(xiàn)代化科學實驗活動要求微型化、精密化、高純度、高質(zhì)量和高可靠性。微型化的產(chǎn)品如電子計算機，從當初的要在數(shù)間房間內(nèi)配置數(shù)臺設(shè)備組合發(fā)展到現(xiàn)在的筆記本電腦，它所使用的電子元器件從電子管到半導體分離器件到集成電路再到超大規(guī)模集成電路，僅集成電路的現(xiàn)寬已從幾微米發(fā)展到現(xiàn)今的0.1μm左右。以集成電路的微型化為例，它對空氣中受控粒子粒徑從0.3~0.5μm的要求發(fā)展到空氣中受控粒子的粒子尺寸要求控制在0.05μm甚至更小，可見各類工業(yè)產(chǎn)品的微型化正不斷對潔凈技術(shù)提出更嚴格的要求。高純度的產(chǎn)品，如生產(chǎn)集成電路所需單晶硅材料，生產(chǎn)光釬所需四氯化硅、四氯化鍺材料已由過去的所謂高純進入“電子純”、“超純”，只有達到如此高的純度才能達到現(xiàn)代集成電路、電子元器件、光釬產(chǎn)品所需的技術(shù)特性。要生產(chǎn)如此高純度的產(chǎn)品，就必須達到相應(yīng)的受控生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度等級和具有相應(yīng)高純度的與產(chǎn)品直接接觸的超純水，超純氣體、超純試劑等。對于現(xiàn)今以“微型電腦”為手段的電子信息時代，產(chǎn)品的高質(zhì)量、高可靠性的重要意義是不言而喻的；對于確保人生安全的滅菌操作以及對于現(xiàn)代基因工程和金芯片的制作也具有特殊的意義。基于這種趨勢潔凈技術(shù)的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)和科學實驗活動不可缺少的重要標志之一。

 20世紀60年代的潔凈技術(shù)在美國、歐洲等發(fā)達國家順應(yīng)各行各業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和科學實驗活動的需要得到了廣泛應(yīng)用，可以認為是潔凈技術(shù)的大發(fā)展時期。美國在1961年誕生了國際上最少的捷徑是標準系美國空軍技術(shù)條令203，并把編制聯(lián)邦政府給的任務(wù)交給了原子能委員會的出版機構(gòu)；1963年底頒布了第一個軍用部分的聯(lián)邦標準即FS-杠209,從此聯(lián)邦標準“209”就成為國際通行的著名的潔凈室標準;1966年頒布了修訂后的FS—209A。1957年蘇聯(lián)第一顆人造衛(wèi)星上天后，美國政府加速發(fā)展宇航事業(yè)、精密機械加工和電子工業(yè)，這些都要求具有受控空氣潔凈的生產(chǎn)環(huán)境，從而帶動潔凈技術(shù)及其設(shè)備制造的大發(fā)展，1961年單向流潔凈技術(shù)和100級潔凈室的建立，更促進了潔凈技術(shù)的進一步發(fā)展。我國的潔凈室技術(shù)開始于20世紀60年代初，在70年代電子工業(yè)潔凈室特別是半導體集成電路用潔凈室的設(shè)計、建造發(fā)展很快，相繼建成一批潔凈廠房，并研制成功100級單向流潔凈室；與此同時，潔凈廠房用設(shè)備和材料，如高效過濾器、潔凈工作臺、層流罩、潔凈烘箱、空氣吹淋室、 凈化型傳遞窗等相繼研制成功，并投入生產(chǎn)，雖然制造質(zhì)量和某些技術(shù)指標與國際水平尚有差距，但已能滿足國內(nèi)部分需求。由高效過濾器、凈化設(shè)備和維護結(jié)構(gòu)（墻板、頂棚、地面）組裝完成的裝配室潔凈室研制成功。到20世紀70年代末我國潔凈室設(shè)計、建造和潔凈技術(shù)的發(fā)展走向成熟階段。